China lansează mașina de litografie e-beam
China a dezvoltat prima sa mașină de litografie e-beam, numită Xizhi, la Universitatea Zhejiang din Hangzhou. Aceasta utilizează fascicule de electroni pentru a grava modele de circuite pe waferele de siliciu. Xizhi poate grava linii de circuit cu o lățime de 8 nm și are o precizie de poziționare de 0,6 nm, respectând standardele internaționale.
Contextul tehnologic
Mașinile de litografie Extreme Ultraviolet (EUV) sunt esențiale pentru producția de cipuri sub 7 nm, dar exporturile către China sunt restricționate de oficialii din SUA și Olanda, în special de firma olandeză ASML. Deși China poate importa mașini de litografie Deep Ultraviolet (DUV), aceste tehnologii sunt mai puțin avansate.
Impactul și viitorul
Mașina Xizhi este un pas important pentru China în încercarea de a depăși restricțiile americane prin dezvoltarea propriilor echipamente de fabricație a cipurilor. De asemenea, Huawei testează o mașină EUV în fabrica sa din Dongguan, cu scopul de a începe producția de masă în 2026. Aceste progrese ar putea permite Chinei să concureze cu liderii din industria semiconductorilor, precum Apple și Qualcomm.
